大尺寸电子级硅单晶炉关键技术及其应用

  • 时间:2019-07-09 16:03:43
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    本项目研制成功我国首台12英寸全自动电子级硅单晶炉并实现产业化,取得了国产集成电路重大技术装备的突破。项目设计制造了全自动晶体生长控制系统,攻克了采用先进控制方法实现恒拉速硅单晶生长工艺的行业公认难题。在国际上首次提出了非对称磁场对改善硅片品质的作用机理,研制成功世界首台大型非对称CUSP磁场系统。多位院士及专家评价上述工作“原始创新、填补空白、打破垄断,意义重大”;研制的自动控制系统获得CE认证进入欧洲市场,技术成果已取得直接经济效益2.9亿元,间接效益21.71亿元。项目与西安奕斯伟公司投资110亿元的半导体大硅片项目建立合作,为打破国外垄断,解决我国在半导体大硅片领域的“卡脖子”问题做出了贡献。2012年,获得国家技术发明二等奖。