闭合场非平衡磁控溅射离子镀膜装备及技术

  • 时间:2019-07-15 09:10:52
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本项目以西安理工大学与英国锑尔镀层公司共建的中英先进镀层实验室为依托,以满足我国制造业对高品质镀膜设备的巨大需求为目标,以在国内建立闭合场非平衡磁控溅射离子镀膜设备研发技术平台为目的,研究先进镀层设备和技术的国产化,并利用此国产化设备进行工艺开发。所研发的闭合场非平衡磁控溅射离子镀膜设备和技术处于国际领先水平,该设备具有处理工件尺寸大,数量多,效率高,镀层制备灵活,成本低等优点。该项目得到国家高技术发展计划(863计划)、国家十五攻关计划、科技部中英国际合作重点项目、陕西省工业攻关等项目的资金支持。目前已开发出十余种高档工模具和精密金属制品用镀层技术,并引起国内制造业的广泛关注。